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uv 照射を完璧に防ぎたい

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●石英基盤上に酸化チタン膜を作り、その上にサンプルを吸着させて膜上でのUV-Visス....


石英基盤上に酸化チタン膜を作り、その上にサンプルを吸着させて膜上でのUV-Visスペクトルを測定したいのですが、石英基盤上にうまく膜が作れません。洗浄方法や焼き時間等、何かアドバイスがあれば教えて下さい。大学4年生で色素増感型太陽電池の研究をしているものです。いろいろと石英基盤上に酸化チタン膜を作ろうと試みたのですが全部失敗でした。一回目(基盤は新品)<洗浄>IPOにてWet洗浄UV-オゾンにてDry洗浄<塗布法>スキージ法にて基盤上に酸化チタン膜を塗布<乾燥>自然乾燥を一晩<焼き方>(℃)-min150-40(室温から40minかけて150℃まで温度を上昇)150-20(150℃を20分維持)350-20(上昇)350-20(維持)450-20(上昇)450-20(維持)二回目(基盤は一回目のを再利用)<洗浄>洗剤で洗浄アルカリ洗剤で洗浄中性洗剤で洗浄蒸留水で洗浄アセトンで置換IPOにてWet洗浄UV-オゾンにてDry洗浄<塗布法>スキージ法にて基盤上に酸化チタン膜を塗布<乾燥>自然乾燥を一晩<焼き方>(℃)-min150-180(上昇)150-20(維持)350-180(上昇)350-20(維持)450-120(上昇)450-20(維持)三回目<洗浄>(基盤は新品)IPOにてWet洗浄UV-オゾンにてDry洗浄<塗布法>スキージ法にて基盤上に酸化チタン膜を塗布<乾燥>自然乾燥を一晩<焼き方>(℃)-min150-180(上昇)150-20(維持)350-180(上昇)350-20(維持)450-120(上昇)450-20(維持)四回目(基盤は新品)<洗浄>UV-オゾンにてDry洗浄<塗布法>スキージ法にて基盤上に酸化チタン膜を塗布<乾燥>自然乾燥を一晩<焼き方>(℃)-min150-180(上昇)150-20(維持)350-180(上昇)350-20(維持)450-120(上昇)450-20(維持)どのように失敗しているかというと膜が基盤から浮いておりパラパラと剥がれてしまっている状況です。また、同じ条件でガラス基板に酸化チタン膜を塗布した場合、全部成功しています。同じような実験をなされている方がいらっしゃいましたら教えて下さい。また、参考になる論文がありました情報をお願いします。ご指導をよろしくお願いします。


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●初めて来ました~。


&laquo; 高坂 | メイン 2009年09月21日 ...


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国立衛研ではHPLC、GC、MS、IR、UV-VIS、原子吸光、ICP-AES、TOC計、イオンクロマト、カールフィッシャー水分計、液体シンチレーションカウンタ、ガイガーカウンタといった装置を使っていた。(全部自分自身が使ったわけでなく、同僚が使うのを見たり実験 ...


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